芯片越來越精微,很多人認為摩爾定律未來不久就會時效。不過,芯片廠商仍然在不斷探索物理世界的極限,從3nm工藝到2nm工藝,從2nm工藝到1.4nm工藝,再從1.4nm工藝到1nm工藝,後者被視為摩爾定律的物理極限。
台積電(圖源網)
10月31日消息,據台灣《工商時報》報道,繼竹科2nm廠之後,台積電將啟動先導計劃,預計最新2nm以下(1nm)製程擬落腳新竹科學園區轄下的桃園龍潭園區。
對此,竹科管理局長王永壯回應稱,關於個別廠商布局情況,在廠商宣布之前不便透露,但單純以龍潭園區來說,第一期事業專用區用地已差不多滿了,第二期主要規劃為公園、綠地開放空間,未來若有新廠想要進駐、設廠,確實要展開第三期基地評估規劃工作。按照這個情況,台積電已經為1nm做規划了,正式量產1nm工藝可能要到2027年去了。
而要量產1nm工藝,更先進的下一代EUV光刻機就成為了重中之重。據悉,ASML的下一代EUV光刻機試驗型號最快明年出貨,2025年後正式量產,這基本在台積電的節奏之中。不過,這種EUV光刻機的售價將達到4億美元以上。
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