「IC制造」台积电、英特尔导入EUV 设备材料厂家登营运动能增强

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作者:DIGITIMES陈玉娟

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家登董事长邱铭干(中)表示,受惠极紫外光光罩盒订单落袋,加上中国市场深耕效益渐显,12吋前开式晶圆传送盒大单到手,2018年业绩回升。DIGITIMES符世旻摄

半导体设备材料大厂家登董事长邱铭干29日表示,受惠于”中国制造2025”大战略,投资新建许多8吋及12吋晶圆厂,强劲带动半导体产业资本支出扩张,加上5G、挖矿热潮、区块链兴起,半导体对高阶纳米芯片需求攀升,他对未来半导体产业持续增长看好,家登受惠两岸12吋厂晶圆新产能开出,12吋前开式晶圆传送盒(300mm FOUP)大单陆续落袋,加上极紫外光光罩盒(EUV POD)已获ASML认证,下半年陆续放量,业绩可望逐季回升,全年应可缴出获利成绩,2019年业绩跃升可期。

家登29日召开股东会,董事长邱铭干做出上述表示。2009年获英特尔投资的家登,主要业务包括光罩与晶圆传载解决方案,目前光罩解决方案占营收比重逾5成。

为提升生产效率,家登于2017年中,启动台湾地区树谷厂,进行生产基地整合,并持续加强面对国内市场客户更深的布局。

邱铭干表示,半导体产业是一项高资本、高技术密集产业,有着高进入门槛,技术成熟酝酿时间长,家登经历新厂与开发新技术的重整期,战略上以聚焦取代发散,与业界材料、设备等相关厂商采取策略联盟,建立长期伙伴关系,寻求高效率合作模式,以满足市场对产品效能与支援速度提升的期望,全力提高营运效能,进行产业上中下游整合,深耕中国市场开拓优势,持续延伸旧有领先地位重新拉高整体毛利率。

邱铭干进一步指出,家登的主力光罩载具类产品,目前态势明朗,期待10年之久的极紫外光(EUV)微影技术已正式商用化,半导体大厂对于7纳米以下高阶制程正逐步推进中,设备购置需求已反应在订单采购。

9年前,家登即全力投入EUV计划,最新极紫外光光罩盒已获ASML的NXE3400机台认证,并现与多家客户进行产品认证作业,尽管EUV的量产面临诸多挑战,但半导体的细微化,唯有EUV技术能突破制程瓶颈,且较具成本优势,因此,家登持续看好极紫外光光罩盒预下一波增长需求。

据悉,目前家登极紫外光光罩盒主力客户为台积电、英特尔,其他业者仍在洽谈中,而在晶圆载具类产品方面,配合“中国制造2025”政策与本地逾20座12吋晶圆厂兴建计划,家登12吋前开式晶圆传送盒已获前段大厂认证,增量后段封测厂实绩,未来几年订单能见度相当明朗。市场预期,随着12吋前开式晶圆传送盒订单陆续到位,极紫外光光罩盒也开始少量出货,下半年营运动能增强。

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